鏡面拋光用納米晶α氧化鋁:
該產品以低溫分解的超細氫氧化鋁為原料,采用溫場均勻的隧道窯1100℃中溫煅燒后,再經過氣流磨研磨加工而成。
該產品具有以下特點:
1:原晶尺寸在0.5μm;
2:純度高,硅鐵鈉等主要雜質含量不大于300ppm;
3:轉化率適中,α相含量不低于80%。
4:原晶尺寸分布窄。
該產品用途:
精細鏡面拋光
鏡面拋光用納米晶α氧化鋁:
該產品以低溫分解的超細氫氧化鋁為原料,采用溫場均勻的隧道窯1100℃中溫煅燒后,再經過氣流磨研磨加工而成。
該產品具有以下特點:
1:原晶尺寸在0.5μm;
2:純度高,硅鐵鈉等主要雜質含量不大于300ppm;
3:轉化率適中,α相含量不低于80%。
4:原晶尺寸分布窄。
該產品用途:
精細鏡面拋光